介紹 在摩爾定律引導(dǎo)下，國際半導(dǎo)體技術(shù)藍(lán)圖（ITRS）也在不斷更新?lián)Q代。隨著集成電路產(chǎn)品技術(shù)需求的提升，光刻技術(shù)也不斷地提高分辨率，以制作更精細(xì)的器件尺寸。 傳統(tǒng)的光刻技術(shù)中鏡頭和晶圓之間的介質(zhì)是空氣，而浸潤式光刻技術(shù)則是把空氣換成了液體，比如水，這是利用了光通過液體后波長縮短從而提高分辨率的原理。 隨著浸潤式光刻技術(shù)的發(fā)展和成熟度越來越高，目前其精度已然達(dá)到 28 nm 生產(chǎn)工藝節(jié)點，其各項主要性能也得到業(yè)界認(rèn)可，如表 1 所...
2024-07-05 10:05:46
