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曝光機是20世紀60年初掃描電子顯微鏡基礎發(fā)展而來的一種新光刻技術，在70年代后廣泛應用于半導體電路板生產(chǎn)制造。曝光機即電子串曝光機，是集電子光學、機械、真空、電氣、計算機技術等于一體的復雜的半導體加工設備。廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域。
該設備主要通過借助深圳雙翌的對位算法，利用四相機對PCB與菲林的四個角點靶標圖像識別，識別后進行均分對位同時也考慮產(chǎn)品來料的畸變等因素。
傳統(tǒng)手動曝光機，菲林與底板手工對位精度100um左右，重復定位靠人眼對位，勞動強度非常大，年輕人不愿意承擔，由于高精度、高速度的工藝需求，需要提高曝光機的核心競爭力。
通過對位平臺的運動，使得模板和菲林重合，理想的對位情況：菲林圓形靶標的中心和PCB同心圓靶標的中心完全重合，即效果為兩圓心重合。
外層：孔最大 即PCB板的孔為3.1725mm
上菲林 次之 2.5mm（內(nèi)徑為2.2mm） 2.2mm（內(nèi)徑2.0mm）
下菲林 實心圓 大小1mm或者0.8mm
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